中新社北京四月五日電 (記者 朱大強)最高人民法院、最高人民檢察院今天發(fā)布了《關于辦理侵犯知識產權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋(二)》，明顯降低了侵犯著作權罪的數量門檻；明確了侵犯著作權罪“復制發(fā)行”的含義，統(tǒng)一侵犯著作權犯罪的罪名適用。
據了解，根據中國近年來保護知識產權形勢的發(fā)展，以及司法實踐中出現(xiàn)的新情況、新問題，“兩高”的這一司法解釋在總結知識產權刑事司法保護實踐經驗的基礎上，對“兩高”二00四年《關于辦理侵犯知識產權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋》進行了補充和完善。
《解釋(二)》還規(guī)范了緩刑適用，以列舉方式進一步明確了一般不適用緩刑的情形；在依法適用主刑的同時，加大罰金刑的適用力度，明確了罰金刑適用的幅度；落實法律關于知識產權刑事案件公訴和自訴的規(guī)定，切實保障被害人的刑事自訴權利；根據知識產權犯罪的特點，統(tǒng)一了單位犯罪與個人犯罪的定罪量刑標準。
